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基于这种结果,硬核研究人员开发了一种可用于沿着金属/陶瓷界面扩散的简单模型,硬核并将其应用于金属/陶瓷体系,同时应用了几个从头算(abinitiocalculations)验证了该模型。器件的性能直接取决于这些金属/陶瓷界面的完整性,技术建起钝化的金属薄膜的形态演变通常也由金属扩散所控制,技术建起而沿着扩展晶体缺陷(如表面、位错、晶界等)的扩散通常快于块体中的扩散。
区电这样仅对金属/金属和金属/半导体界面进行小规模测量。尽管如此,网防相关证据表明沿着连贯(半连贯)金属/陶瓷界面的扩散是迅速的,这似乎与快速传输和低原子密度之间的关系相反。但是,火墙金属-氧键(氧化物陶瓷)可能远高于金属原子间的键,这表明沿着金属/陶瓷界面的扩散可能受到抑制。
打造大湾Ni/α-Al2O3衬底上的多晶Ni薄膜的成孔结合连续扩散分析表明沿着Ni/α-Al2O3界面扩散非常快。该结论为材料设计应用于多领域提供了易于实现的指导方案,硬核特别是在能源和微电子行业。
但并不知金属/陶瓷界面上金属扩散系数的直接测量方法,技术建起间接证据表明,技术建起金属/陶瓷界面可能是金属原子的高扩散路径,可以推测,沿金属/陶瓷界面的扩散可以与沿其他内部界面的扩散相媲美。
【引言】金属/陶瓷界面是一种广泛应用于各种技术的构建模块,区电包括半导体器件(金属/氧化物)、发动机上的热障涂层以及全固态电池等领域。对于一篇科研成果来说,网防一张生动的图片、精彩的视频可以帮助科学家们更好地传达观点,成果也可以更好地传播。
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